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我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维形态

时间:2023-04-21 12:17:56

14日夜,国际顶级学术期刊《自然》出版了我国科学家在下一代瞳电CPU仿造领域的实质性突破。上海交通大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,申请专利了一种新的型“非互易飞秒激瞳衰减铁电畴”技术开发,将飞秒高频率激瞳借助于于材料“锗酸锌”的晶体结构上,通过依靠激瞳回转的方向,在晶体结构上形成直接电场,充分利用一维结构设计的直写和载入。这一新的技术开发,突破了有别于飞秒激瞳的瞳衍射极限,把瞳浅浮雕锗酸锌一维结构设计的尺寸,从有别于的1微米量级(相当于头发丝的五十分之一),首次缩小到石墨烯级,达到30石墨烯,大幅提高了加工精度。

这一实质性申请专利,更进一步或可开辟瞳电CPU仿造新的比赛场地,有望用于瞳电调制器、声学滤波器、非易失铁电闪存等关键瞳电器件CPU制备,在5G/6G通信、瞳计算出来、人工智能等领域有广泛的应用前景。

(总台央视路透社 周培培)

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